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欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权局局长申长雨在(zài)新闻发布会上表(biǎo)示,将统筹推进各(gè)类知识产权(quán)法律(lǜ)法规和制(zhì)度规则(zé)的制修订工作。其中,修(xiū)改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成(chéng)电路发展需要(yào),助力芯片产业做(zuò)大做强(qiáng),服务数字经济更(gèng)好(hǎo)发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等新(xīn)领域新业态知识产权规则研究,助力相(xiāng)关(guān)领域(yù)创新(xīn)发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好标准国际经贸规则(zé),助力高水平对外开放。

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