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异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长(zhǎng)申长雨在(zài)新闻发布会上表示(shì),将统(tǒng)筹推(tuī)进(jìn)各(gè)类知识产权法(fǎ)律(lǜ)法规和(hé)制度规则的(de)制修订工作。其中(zhōng),修改(gǎi)完善集(jí)成电(diàn)路布图设(shè)计保护(hù)条例,适(shì)应大(d异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写à)规模集成电路发展需要(yào),助力芯片产业做大做强(qiáng),服务数字经济更好(hǎo)发(fā)展。

  加强(qiáng)大数据、人工智(zhì)能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发展(zhǎn)。同时(shí),积极(jí)参(cān)与(yǔ)知识产权(quán)国际规(guī)则制定,更好对接高标(biāo)准国际经贸(mào)规则,助(zhù)力高水平对外开放。

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